關(guān)于磁軛磁極間距的問題

     《承壓設備無損檢測 學習指南》第194頁（第4篇第2章十四磁軛法）有下列敘述：“JB/T4730-2005將最小磁極間距擴大到75，與ASME規(guī)范一致。”

       筆者手頭有2010年版的ASME V ，筆者未從該書第7章、第25章找到關(guān)于磁軛磁極間距的規(guī)定。也許，筆者老眼昏花，未找到地方，望MT專家不吝賜教。

我看了ASME V -2007也沒有，EN有規(guī)定！

謝謝王緒軍先生！

ASME  v 對磁極間距為什么沒做具體規(guī)定？比如我國的75--200mm？是ASME     V 疏漏，還是另有深意？福州張先生提出小徑管MT問題，對ASME V就沒有75mm下限了，一切以靈敏度試片和提升力決定(當然，也要防止磁極吸引磁粉掩蓋有用顯示)。我認為該措施，對小件反倒靈活。望壇友賜教！

學習了，平時只知道間距是75~200MM。但是我檢測某些結(jié)構(gòu)較為不規(guī)則的會小于75間距，哪時候我是已靈敏度試片為準。

是ASME V 疏漏，還是另有深意？

我覺得是另有深意！

學習了

李濟科 發(fā)表于 2014-6-12 09:38
ASME  v 對磁極間距為什么沒做具體規(guī)定？比如我國的75--200mm？是ASME     V 疏漏，還是另有深意？福州張先 ...

雖然從理論上來說，磁軛的磁極附近（距磁極25mm范圍內(nèi)）磁力線密度過大，易產(chǎn)生非相關(guān)顯示，從而干擾相關(guān)顯示。但是小徑管MT時，為什么標準試片上的人工缺陷磁痕能夠清晰顯示呢（參以前發(fā)布的照片）？筆者認為：究其原因，是由于小徑管曲率半徑較小，跟磁極的接觸面積較小，不像平板那樣是平面接觸（接觸面大），使得由磁極進入小徑管表層的磁力線（用AC磁化）比平板的要少得多，這也就降低了進入管子表面的磁通量，從而抵消了因“磁極附近磁力線密度過大”而造成的上述不利影響。

事物本身有其普遍性，也有其特殊性，標準上的只是MT的一般的普遍要求。特殊情況，特殊處理。標準試片的功能之一，用于檢驗磁化方法的正確與否，它小巧玲瓏、攜帶方便、快速好用，避免了煩雜的計算，便于檢測現(xiàn)場使用。筆者認為：小徑管在進行AC磁化時，只要①提升力≥45N（磁極與工件表面間隙0.5mm）②只要標準試片上的人工缺陷磁痕能夠清晰顯示，即可有效地進行MT。

同意張先生評論！